随机粗糙面的电磁散射及其与目标的复合散射研究

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随机粗糙面的电磁散射在电磁学、光学、声学等领域中有着重要的应用,在国防军事领域和民用领域也具有显著的学术价值和广泛的应用前景。日趋频繁的工程应用需求对数值模型的求解速度和效率提出了较高要求。本文主要研究随机粗糙面的电磁散射特性以及与目标的复合散射。引入了Kirchhoff近似方法、弹跳射线法(SBR)。可以有效地计算粗糙面的散射以及与目标的复合散射。本文针对二维和三维粗糙面的散射,引入了Kirchhoff近似方法,基尔霍夫近似方法是研究粗糙面电磁散射特性的经典方法之一,它是建立在切平面近似的散射机制的基础上。若随机粗糙面是大尺度起伏,其平均曲率半径远大于波长,在粗糙面上局部的曲面可用该点处的局部切平面近似,则该处的表面场就用该切平面上的切向场近似。这一切平面近似,称为Kirchhoff近似(KA)。在数值计算中对无限扩展的粗糙面要进行有限的截断,为了消除粗糙面的边缘突然被截断而产生的反射和边缘绕射等效应,考虑用锥形波(tapered wave)代替平面波入射,实现粗糙面的渐进截断。对锥形波的参数选择也作了说明。本文针对粗糙面与目标的复合散射,引入了SBR方法,SBR是一种将物理光学法(PO)和几何光学法(GO)相结合的方法。首先它利用GO原理模拟电磁波在目标表面的多次反射效应,即用一系列几何光学射线管来近似电磁波入射到目标表面并且在目标表面发生多次弹跳反射作用,在射线最后一次反射离开目标表面时利用PO原理计算该射线管的远场辐射,最后将所有射线管的远场辐射叠加即为目标的远场辐射。所以SBR能很好地考虑粗糙面与目标的多次作用。本文针对介质粗糙面与目标的复合散射,引入了EFIE+PMCHW方法来研究,并验证了结果的正确性。
摘要第3-4页
Abstract第4页
目录第6-8页
1 绪论第8-12页
    1.1 研究背景和意义第8-9页
    1.2 国内外研究概况第9-11页
    1.3 本文的主要内容和结构安排第11-12页
2 随机粗糙面的基本理论第12-19页
    2.1 引言第12页
    2.2 二维电磁散射的表面积分方程第12-15页
    2.3 随机粗糙面的产生第15-17页
        2.3.1 一维随机粗糙面的产生第15-16页
        2.3.2 二维随机粗糙面的产生第16-17页
    2.4 谱密度函数第17-18页
        2.4.1 高斯谱第17页
        2.4.2 稳态海谱第17-18页
    2.5 本章小结第18-19页
3 随机粗糙面电磁散射分析的高频方法第19-32页
    3.1 基尔霍夫近似第19-22页
        3.1.1 基尔霍夫近似解的条件第19页
        3.1.2 基尔霍夫近似解的公式第19-22页
    3.2 锥形波第22-23页
    3.3 二维粗糙面的散射第23-24页
    3.4 三维粗糙面的散射第24-28页
        3.4.1 导体粗糙面的散射第24-25页
        3.4.2 路德韦格算法第25-27页
        3.4.3 双站散射系数第27-28页
    3.5 数值结果第28-31页
    3.6 本章小结第31-32页
4 二维粗糙面与目标的复合散射第32-41页
    4.1 引言第32页
    4.2 目标与粗糙面散射的表面场积分方程第32-34页
    4.3 粗糙面感应场的KA计算第34-35页
    4.4 KA与CG的混合迭代算法第35页
    4.5 差场散射截面的定义第35-37页
    4.6 锥形波的修正第37-38页
    4.7 数值结果第38-40页
    4.8 本章小结第40-41页
5 三维导体粗糙面与目标的复合散射第41-55页
    5.1 引言第41页
    5.2 弹跳射线方法第41-49页
        5.2.1 射线路径追踪第42-45页
        5.2.2 射线强度追踪第45页
        5.2.3 远场积分第45-47页
        5.2.4 射线管在口径面上积分第47-49页
    5.3 反射系数第49-50页
    5.4 数值结果第50-54页
    5.5 本章小结第54-55页
6 介质粗糙面以及与目标的复合散射第55-67页
    6.1 引言第55页
    6.2 PMCHW积分方程构成第55-58页
    6.3 介质粗糙面与导体目标电磁散射特性的表面积分方程法分析第58-60页
    6.4 ACA算法原理第60-63页
    6.5 数值结果第63-66页
    6.6 本章小结第66-67页
7 总结与展望第67-68页
    7.1 本文的主要工作第67页
    7.2 展望第67-68页
致谢第68-69页
参考文献第69-72页
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